Intel, похоже, оставляет введение 10-нм технологии

Сейчас наиболее современные микропроцессоры Intel поколения Broadwell изготавливаются по 14-нанометровой технологии. Но с внедрением данной методики у компании появились неприятности, в связи с чем возникновение Broadwell на рынке замешкалось. Похоже, такая же линия поймет и грядущие чипсеты, сделанные по общепризнанным меркам 10 нанометров.

Сама Intel постоянного сообщала о подготовке 10-нанометрового техпроцесса, но о сроках его внедрения скрывала. В середине февраля этого года один из начальников Intel на Востоке оговорился, что первые чипсеты, сделанные по новой методике, необходимо ожидать в самом начале 2017-го. Другими словами, их выпуск предполагалось осуществить не позже 2-й половины 2016 года. Однако отныне сетевые источники передают, что сроки, вероятнее всего, будут вынесены.

Все дело в том, что Intel, согласно слухам, рассчитывала начать покупку нужного оснащения для внедрения 10-нм техпроцесса месяц назад. Сегодня же именуется январь этого года. Так что, общее изготовление изделий следующего поколения, возможно, начнётся лишь в начале 2017-го, а на рынке они будут в любом случае в середине такого же года.

Надо увидеть, что для производства 10-нм чипов Intel реконструирует израильский автозавод Fab 28, располагающийся в Кирьят-Гате. Но тестовый выпуск подобных чипов начинает на заводе D1X в Хиллсборо (Орегон, США). По такой технологии, например, будут производиться микропроцессоры с кодовым названием Cannonlake, которые будут наследниками Skylake (выйдут в 2015-м). В будущие проекты Intel входит введение технологий с общепризнанными мерками 7 и 5 нанометров. 

Вы можете оставить комментарий, или ссылку на Ваш сайт.

Оставить комментарий